チュートリアル

開催方法

  • 現地（上智大学）・オンライン（Zoomウェビナー）のどちらでも受講可能です。
  • 現地参加・オンライン参加ともに、参加申込締切は3月8日（水）正午です。
  • 講演会場（上智大学）には、聴講者の方にご利用いただけるオンライン環境がございません。チュートリアルにオンライン参加される方は、自宅・勤務先・宿泊先等よりご参加ください。
  • 講義資料は3月8日（水）の午後にデータにてお送りいたします。
  • 当チュートリアルは、録画し、3月29日（水）～4月11日（火）16時で、チュートリアル参加者限定で見逃し配信実施予定です。

チュートリアルマニュアル

講義内容

題目 講義１：MEMS技術の基礎と集積デバイスへの展開

講義２：先端リソグラフィ技術の基礎とデバイス技術への展開
日時/会場 3月16日（木）9時00分～11時30分（講義1: 70分､休憩10分､講義2: 70分）/　A302会場（6号館）
大分類 6.薄膜・表面
内容 講義１

自らが微小であることで、世の中の神羅万象を高感度に検知することができる「微小電気機械システム（MEMS）」は、トランジスタに代表される半導体素子の原理と作製法と軌を一にして研究が発展してきた。1960年代に遡る自動車向け圧力センサの開発、1980年代よりの表面マイクロマシーニング、1995年以降のシリコン深掘りエッチング（Deep RIE）技術等、幾つかのエポックメーキングな発展段階を経て、世の中を豊かにする電子デバイスのインターフェースとして、欠くことのできない位置を占めている。さらに21世紀最初の四半世紀において、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」およびそれを発展的に引き継いだ「マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）」事業等の成果として、半導体微細加工にもオープンアクセスの波が生まれている。21世紀2つ目の四半世紀では、これら成熟した「シリコン半導体集積回路」と「オープンプラットフォーム」によって、電気と機会が進に融合した新しい集積デバイスが生まれ、情報技術との融合によって新たな価値を生み出すと考えられる。このように重要かつ幅の広い化学技術分野であるが、実は基本を理解してしまえば驚くほど簡単に新たな応用を生み出すことのできる、17世紀デカルト主義に通ずる普遍性がある。

本チュートリアルでは、東京大学工学部第一回「Best Teaching Award」を受賞し、学生からの講義の楽しさで評判の講師が、四半世紀にわたる集積MEMS研究の結果を踏まえ、MEMSの基礎からオープンプラットフォームと集積回路の組み合わせによる普遍的技術とその展望をわかりやすく解説する。

 

講義２

半導体集積回路の発展は、主にデバイスの微細化によって達成されて来た。
デバイス寸法の微細化により、デバイスの高集積化（低コスト化）、高速化、低消費電力化という３つの効果が一度に得られるという非常に効率的な効果を生み出してきたわけである。しかし、最小加工寸法が10nmレベルに到達して来た現在、はっきりと微細化に限界が見え始めている。ただ、テクノロジーノードとしての微細化は、未だに進行しており、10nmを切る加工も求められている。本チュートリアルでは、デバイスの微細化と、このデバイス寸法の微細化を牽引して来たリソグラフィ技術、特に光リソグラフィ技術の発展との関係を明らかにするとともに、今後のリソグラフィ技術の進展とデバイス技術の関係を紹介したい。
半導体集積回路の加工には、光を用いた縮小投影露光技術が主に用いられてきた。ここでは当初、露光光学系の高NA化と、露光波長の短波長化で高解像度化を支えてきた。さらに様々な高解像度化技術の開発と、レジスト材料の高性能化により、解像度の向上が実現されて来た。しかし、従来の光露光技術の最終形態であるArFエキシマレーザー光を用いた液浸露光技術の実用化以降、現在最先端のEUV露光の実用化まで、１５年以上のブランクが有り、この間、Multiple Patterning技術という露光性能自体ではなく、プロセス技術を駆使した高解像度化の時代を経て、EUV露光技術の時代を迎えている。これらのリソグラフィ技術の発展をデバイス技術の高集積化との関係について紹介する。
講師名・講師略歴 講義１：三田 吉郎（東大）

1991 東京大学理科I類　入学
1995　同　電子工学科卒
1997　同　大学院工学系研究科　電気工学専攻修士課程卒
2000　同　博士課程卒　博士（工学）

同　大規模集積システム設計教育研究センター　助手
2001　同　大学院工学系研究科　電気電子工学専攻　講師
2005　同　助教授（2007年准教授へ職名変更）
2022　同　教授　現在に至る
1997　フランス国立科学研究センター（CNRS）補助研究員
2007　フランス国立情報学研究所（INRIA）招聘教授
2016　宇宙科学研究所（JAXA/ISAS）客員准教授
専門：半導体微小電気機械システム（MEMS）
応用物理学会、電子情報通信学会会員
電気学会上級会員、IEEE上級会員

 

講義２：岡崎　信次（ALITECS株式会社）
１９７０年３月東京工業大学電子工学科卒業、日立中研に入所。化合物半導体デバイスの研究、微細MOSデバイスの研究、微細加工技術の研究に従事。１９９３年２月半導体事業部、１９９８年2月デバイス開発センタを経て、同年７月に技術研究組合超先端電子技術開発機構（ASET）EUV研究室に出向、室長に就任、２００２年４月より２００７年3月まで同機構EUVプロセス技術研究部部長に就任。２００７年３月に日立中研に帰任。計測評価技術の研究に従事。２００９年３月日立を退社、同年４月にギガフォトン（株）に入社、同時に技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構（EUVA）に出向。２０１１年１１月に、ギガフォトン（株）に帰任。EUV光源技術の開発に従事。２０１６年１２月、ギガフォトン（株）を定年退職。２０１７年２月より、ALITECS（株）に入社。現在、同社技術マーケティング部長、IEEE Life Fellow, SPIE Fellow, 応用物理学会 Fellow、電子情報通信学会正会員、博士(工学)。
題目 半導体装置メーカによる最新技術の動向
日時/会場 3月15日（水）9時00分～11時30分（休憩10分）/　A304会場（6号館）
大分類 8.プラズマエレクトロニクス
内容 微細化の限界が見えつつある中、集積密度を高める先端デバイスに対するアプローチをプラズマを用いた加工技術を中心に、最新のプロセス・装置の動向を紹介する。
講師名・講師略歴 大場 富仁（ラムリサーチ合同会社）

2004年ラムリサーチ入社。Reagional Process Technology Group Sr. Staff
題目 スピントロニクス入門
日時/会場 3月15日（水）9時00分～12時10分（休憩10分）/　A302会場（6号館）
大分類 10. スピントロニクス・マグネティクス
内容 A. 磁気の基礎
1. 磁気の単位
2. 磁化曲線，磁気異方性
B. スピントロニクスの基礎
1. 薄膜（人工格子）作製・評価法，垂直磁化
2. 巨大磁気抵抗効果，トンネル磁気抵抗効果
3. スピントロニクスの諸現象（スピン注入，スピントルク，etc.）
4. スピン流の基礎とスピントロニクスの新展開
講師名・講師略歴 高梨 弘毅（日本原子力研究開発機構　先端基礎研究センター）
1981　東京大学理学部卒業
1986　東京大学大学院理学系研究科（博士課程）修了
東北大学金属材料研究所助手
1994　同助教授
1994-1995　アレクサンダー・フォン・フンボルト客員研究員としてドイツ・ユーリヒ研究センターに滞在
2000　東北大学金属材料研究所教授
2009　同副所長
応用物理学会論文賞（解説論文賞）
2011　日本金属学会増本量賞
日本磁気学会出版賞
2012　日本磁気学会論文賞
2013　IEEE Magnetics Society Distinguished Lecturer
2014　東北大学金属材料研究所所長（〜2020）
2018　東北大学スピントロニクス学術連携研究教育センター長（〜2022）
東北大学総長補佐（〜2020）
文部科学大臣表彰科学技術賞（研究部門）
2019　応用物理学会フェロー
日本磁気学会学会賞
2021　日本金属学会村上記念賞
東北大学金属材料研究所本多プロフェッサー
2022　東北大学名誉教授
日本原子力研究開発機構 先端基礎研究センター長
AUMS (Asian Union of Magnetics Societies) award

申込方法

お申込みは終了いたしました。

  • クレジットカード決済・コンビニ決済がご利用いただけます。
  • クレジットカード決済の方は、3月8日（水）正午までに、お申込み・ご入金を完了させてください。コンビニ決済の方は、3月7日（火）までにお申込み・ご入金を完了させてください。
  • ウェブ会議室URL、チュートリアル講義資料（PDF）を3月8日（水）午後に送付予定です。

受講料（講義資料ＰＤＦ含む）

社会人・学生（会員・非会員） 5,000円（税込）
※複数の講座へのお申込みが可能です。１講座毎に5,000円が必要です。
  • 聴講のみの学生は、第70回春季学術講演会の参加費は無料としておりますが、チュートリアルを受講する場合はチュートリアルの受講料のお支払いが必要となります。

視聴方法

  1. 3月8日（水）の午後、にチュートリアル参加用URLと、講義資料（PDF）をメールにてお送りいたします。こちらのメールをチュートリアル当日まで保存願います。メールが届かない場合はmeeting（at）jsap.or.jpまでご連絡ください。
  2. チュートリアル開始時刻になりましたら、メールに記載のリンクより、ご入室ください。
    Zoomのウェブ会議システムを利用して開催予定です。
    Zoomをインストールせずとも、ウェブブラウザからの参加も可能です。
    また、視聴にあたり、Zoomの有料契約を結んでいただく必要はありません。チュートリアル参加費のみで視聴が可能です。
  3. 現地参加の方は、会場入り口にて受付のものにお名前をお伝えいただき入場してください。
  4. 当チュートリアルは、録画し、3月29日（水）～4月11日（火）16時で、チュートリアル参加者限定で見逃し配信実施予定です。

詳細は以下をご参照ください。

チュートリアルマニュアル